國研院儀科中心在今年台灣國際半導體展中，展出自行研發的 ALD 鍍膜系統及可協助半導體產業先進系統設計與新穎材料測試的「原子層沉積聯合實驗室」服務平台。
2018 國際半導體展 5 日到 7 日在南港展覽館舉行，共計超過 2000 個攤位，國家實驗研究院儀器科技研究中心也參展，展出自行研發的成果。
國研院今天透過新聞稿表示，為了因應產業界對於半導體製程尺寸微縮需求，以及奈米科技於多元科技應用發展，儀科中心深耕原子層沉積技術（ALD）10 多年，已提供學界與業界多套自製 ALD 系統，展出自行研製開發的「電子顯微鏡試片電子損傷防護鍍膜系統」，是一桌上型 ALD 鍍膜系統，專為小尺寸試片與探針製鍍超薄奈米結構，具備高密度表面絕緣保護膜製鍍品質，並可應用於生物試片與原子解析度三維重構試片製鍍。
除客製化 ALD 機台設備外，儀科中心的「原子層沉積聯合實驗室」服務平台提供前驅物材料合成及篩選、關鍵製程技術開發，協助半導體產業實現先進系統設計與新穎材料測試。
國研院指出，儀科中心近年來全力投入半導體設備關鍵零組件自製開發，透過在光機電及真空領域深耕逾 40 年的技術能量，與半導體設備產業進行結合，帶動上下游關鍵零組件在地化發展，提升台灣半導體產業的競爭力。
(中央社)
評論被關閉。